专利名称：用于涂敷和显影的系统和方法专利类型：发明专利
发明人：松山雄二,北野淳一,北野高广申请号：CN01122045.7申请日：20010509公开号：CN1322970A公开日：20011121
摘要：本发明是一种对基片进行涂敷和显影处理的系统,该系统包含处理部分,该处理部分有用于在基片上形成涂层薄膜的涂敷单元、用于对基片显影的显影单元、用于对基片进行热处理的热处理单元、用于将基片送入/送出这些涂敷单元、显影单元和热处理单元的第一运送单元。本发明的该系统还包含接口部分,该接口部分具有用于至少通过在处理部分和曝光处理单元之间的路径运送基片的第二运送单元,其中曝光处理单元位于该系统外部用于对基片进行曝光处理。本发明的该系统还包含减压去除单元,用于在基片曝光处理之前通过在腔室内的抽吸去除附着在基片涂层上的杂质。根据本发明,在曝光处理之前,可以去除附着在基片涂层薄膜上的分子级的杂质比如氧气、臭氧和有机物质和比如颗粒的杂质,因此适于进行曝光处理,从而提高成品率。
申请人：东京毅力科创株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：中国专利代理(香港)有限公司
代理人：林长安
更多信息请下载全文后查看
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容