专利名称：半导体制造车间环境监控系统专利类型：实用新型专利发明人：施燕莉,李广宁申请号：CN201420147566.2申请日：20140328公开号：CN203773330U公开日：20140813
摘要：本实用新型揭露了一种半导体制造车间环境监控系统，设置了备用空气取样系统，取样环境记录系统以及数据库，能够记录取样时的环境参数以及历史分析结果，在分析数据出现异常时可以通过比对历史数据以及备用空气取样系统的数据进行判断，并自动进行重新取样，帮助工作人员更准确的监控半导体制造车间的空气环境，以及对事件发生后进行数据分析。
申请人：中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
地址：100176 北京市大兴区北京经济技术开发区(亦庄)文昌大道18号
国籍：CN
代理机构：上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)
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