专利名称：定位测量装置、定位调节装置以及激光系统专利类型：实用新型专利发明人：荒川正树,宫本浩孝申请号：CN202021080449.0申请日：20200612公开号：CN212341675U公开日：20210112
摘要：本申请实施例提供一种定位测量装置、定位调节装置以及激光系统。所述定位测量装置包括：第1部件，其具有供入射的激光通过的第1开口，并使所述入射的激光的光束直径减小并且输出所述激光；第1光学元件，其对所述激光的至少一部分进行反射；第2部件，其被配置在所述第1部件与所述第1光学元件之间，具有供所述激光通过的第2开口；第2光学元件，其将所述第1光学元件反射的所述激光朝向所述第1光学元件进行反射；以及测量部，其对在所述第2部件上生成的光的位置进行测量。由此，能够容易地提高定位的测量精度，而不必扩大激光系统内的空间或者不必使用高灵敏度的光传感器。
申请人：极光先进雷射株式会社
地址：日本栃木县
国籍：JP
代理机构：北京三友知识产权代理有限公司
更多信息请下载全文后查看
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容