（12）发明专利申请
（21）申请号 CN201510336832.5 （22）申请日 2011.06.23
（71）申请人 东京毅力科创株式会社
地址 日本东京都
（10）申请公布号 CN104966685A
（43）申请公布日 2015.10.07
（72）发明人 松冈伸明;宫田亮;林伸一;榎木田卓 （74）专利代理机构 北京尚诚知识产权代理有限公司
代理人 龙淳
（51）Int.CI
权利要求说明书 说明书 幅图
（54）发明名称
涂布、显影装置
（57）摘要
本发明提供一种涂布、显影装置，其目的
在于提供能够抑制处理模块的设置面积并且能够抑制装置的运转效率降低的技术。将前级处理用单位块作为第一前级处理用单位块和第二前级处理用单位块以上下二层化的方式相互叠层，将后级处理用单位块作为第一后级处理用单位块和第二后级处理用单位块上下以上下二层化的方式相互叠层，进一步将显影处理用单位块作为第一显影处理用单位块和第二显影处理用单位块以上下
二层化的方式相互叠层，由此构成处理模块，该涂布、显影装置包括：从前级处理用单位块向后级处理用的各单位块分配并交接基板的第一交接机构；和将曝光后的基板分配并交接给显影处理用单位块的第二交接机构。
法律状态
法律状态公告日
2015-10-07 2015-10-07 2015-11-11 2015-11-11 2018-07-10
法律状态信息
公开 公开
实质审查的生效 实质审查的生效 授权
法律状态
公开 公开
实质审查的生效 实质审查的生效 授权
权利要求说明书
涂布、显影装置的权利要求说明书内容是....请下载后查看
说明书
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