专利名称：一种复杂曲面干涉测量中前景区域提取方法专利类型：发明专利发明人：王晛,方素平,蔡啟文申请号：CN202011584267.1申请日：20201228公开号：CN112581490A公开日：20210330
摘要：本发明公开了一种复杂曲面干涉条纹图像的前景区域提取方法。由于采用干涉法对复杂曲面表面形状误差进行测量时，CCD的视场通常大于被测面，所以采样得到的干涉条纹图像中将同时包含着前景区域和背景区域。其中背景区域图像不仅会对干涉条纹后续处理的相位提取、相位解包裹以及图像配准产生影响，而且会降低数据处理的效率并最终影响测量结果的精度。因此，在对干涉条纹图像进行处理前应首先对被测前景区域进行提取。
申请人：西安理工大学
地址：710048 陕西省西安市碑林区金花南路5号
国籍：CN
代理机构：西安弘理专利事务所
代理人：涂秀清
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