一种阵列基板的制作方法、阵列基板和显示面板[发明专利]

来源：伴沃教育

专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：一种阵列基板的制作方法、阵列基板和显示面板专利类型：发明专利发明人：唐维,卢改平

申请号：CN201810684318.4申请日：20180628公开号：CN109031820A公开日：20181218

摘要：本发明提供一种阵列基板的制作方法、阵列基板和显示面板，其中，该阵列基板的制作方法包括：步骤S1、提供一玻璃基板，所述玻璃基板包括显示区和非显示区；步骤S2、在所述玻璃基板的非显示区制作静电释放器件；步骤S3、在所述静电释放器件上方制作金属层，使所述金属层与所述静电释放器件构成电容。本发明通过在阵列基板中的静电释放器件的上方增加金属层，使得金属层和静电释放器件构成电容，从而具备一定的抗静电作用的同时均衡金属层上下多晶硅层的应力；此外，通过在金属层的上方设置绝缘层通孔，减小金属层上方的氮化硅层的厚度，进一步降低非金属层叠加应力大的影响。

申请人：武汉华星光电技术有限公司

地址：430000 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋

国籍：CN

代理机构：深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙)

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