专利名称：脱模膜专利类型：发明专利
发明人：佐竹光,前田清成,杉山龙一,辻内直树申请号：CN201980064864.0申请日：20190725公开号：CN112789172A公开日：20210511
摘要：本发明的目的在于改善具备含粒子的脱模层的脱模膜在加热加压后的剥离性及耐溶剂性。另外，本发明的目的在于通过使用该脱模膜来降低转印层的光泽度。用于实现上述目的的本发明的脱模膜在基材膜的至少一面具有脱模层，上述脱模层为组合物(I)或组合物(II)的固化层。组合物(I)：热固性组合物，其含有包含碳原子数8以上的烷基的化合物(a)、交联剂(b)及粒子(c)。组合物(II)：活性能量线固化性组合物，其含有包含碳原子数8以上的烷基的化合物(α)及粒子(c)。
申请人：东丽薄膜先端加工股份有限公司
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京市金杜律师事务所
代理人：杨宏军
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