专利名称：脱模膜专利类型：发明专利发明人：谷口裕人
申请号：CN201510236543.8申请日：20110330公开号：CN104842621A公开日：20150819
摘要：本发明的目的是提供一种脱模膜，其将CL膜粘附于电路露出膜时，能够防止脱模层向电路露出膜和CL膜的密合以及脱模层彼此之间的密合，同时可得到比现有的PBT类脱模膜更好的嵌入性。本发明的脱模膜(100)包括至少含有聚对苯二甲酸丁二醇酯均聚物(A)、聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)成分与聚丁二醇(PTMG)成分的共聚物(B)的脱模层(110)。
申请人：住友电木株式会社
地址：日本国东京都品川区
国籍：JP
代理机构：北京北翔知识产权代理有限公司
更多信息请下载全文后查看
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容