一种光伏硅片清洁剂及其清洁方法[发明专利]

(12)发明专利申请

(10)申请公布号(10)申请公布号 CN 1037862 A(43)申请公布日 2014.07.02

(21)申请号 201210567037.3(22)申请日 2012.12.25

(71)申请人青海天誉汇新能源开发有限公司

地址810000 青海省西宁市生物科技创业园

经四路22号(72)发明人白恒玮(51)Int.Cl.

C11D 1/831(2006.01)C11D 3/10(2006.01)B08B 3/12(2006.01)B08B 3/08(2006.01)

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()发明名称

一种光伏硅片清洁剂及其清洁方法(57)摘要

一种光伏硅片清洁剂及其清洁方法，涉及一种光伏硅片清洁剂及光伏硅片的化学、超声波清洁方法。应用于光伏硅片清洗、清洁领域。其特点是该清洁剂的组分为：按重量配比为，纯水∶碳酸钠∶偏硅酸钠∶脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙稀封端聚醚∶C12脂肪醇聚氧乙烯醚∶烷基苯磺酸盐∶烷基双羟酸盐＝100∶2∶2∶3∶3.5∶2∶1；将上述原料混合，搅拌。清洁方法的技术方案是：一：制作清洁剂，将上述原料按比例混合，搅拌；

将硅片放入容器中加入纯水，超声二：纯水冲洗，

波清洗5分钟，温度50℃；三：清洁剂冲洗，将硅片放入容器中加入上述清洁剂，超声波清洗5分钟，温度65℃；四：纯水冲洗，将硅片放入容器中加入纯水，超声波清洗5分钟，温度50℃；五：烘干。CN 1037862 ACN 1037862 A

权 利 要 求 书

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1.一种光伏硅片清洁剂，其特征在于该清洁剂的组分为：按重量配比为，纯水∶碳酸钠∶偏硅酸钠∶脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙稀封端聚醚∶C12脂肪醇聚氧乙烯醚∶烷基苯磺酸盐∶烷基双羟酸盐＝100∶2∶2∶3∶3.5∶2∶1；将上述原料混合，充分搅拌而成。

2.一种光伏硅片的清洁方法，其特征在于：步骤一：制作清洁剂，将纯水、碳酸钠、偏硅酸钠、脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙稀封端聚醚、C12脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基苯磺酸盐、烷基双羟酸盐按100∶2∶2∶3∶3.5∶2∶1的比例混合，并充分搅拌；步骤二：纯水冲洗，将硅片放入容器中加入纯水，用超声波清洗5分钟，温度50℃，超声波功率80w，频率40Hz；步骤三：清洁剂冲洗，将硅片放入容器中加入上述清洁剂，用超声波清洗5分钟，温度65℃，超声波功率80w，频率40Hz；步骤四：纯水冲洗，将硅片放入容器中加入纯水，用超声波清洗5分钟，温度50℃，超声波功率80w，频率40Hz；步骤五：烘干。

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说 明 书

一种光伏硅片清洁剂及其清洁方法

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技术领域

[0001]

本发明涉及一种光伏硅片清洁剂及光伏硅片的化学、超声波清洁方法。

背景技术

太阳能硅片是光伏电池片的载体，硅片质量的好坏直接决定了光伏电池片转换效

率的高低。太阳能硅片在经过切片、倒角、研磨、抛光等几道工序后，表面不可避免地会受到不同程度的污染，因此，需要对太阳能硅片进行清洗，以去除其表面的一些颗粒、金属离子以及有机物。但太阳能硅片清洗的好坏在一定程度上会影响硅片的质量，处理不当会损害硅片的稳定性与可靠性，甚至使得整个产品报废。由于太阳能硅片在进入每道工艺之前表面都必须是洁净的，所以需经过多次重复清洗，使得硅片的清洗工作成为一个繁琐的问题，为此受到国内外研究机构及企业的重视。这是一个光伏行业不容忽视的工序。很多企业开发并生产硅片清洗设备，所以目前市面上有多种用于太阳能硅片清洗的工艺，比如超声清洗法、RCA标准清洗、兆声清洗法、高压喷射法、离心喷射法、等离子清洗、气相清洗、激光束清洗等等，形成了百花齐放的势态。使用何种清洗工艺方法，需要根据不同客户不同硅片上的表面状态、洁净度、污染情况等进行选择。据业内反馈，在众多的清洗方法中，使用较多的是超声波清洗法与RCA标准清洗法。到目前为止还没用一种专用的清洗剂，且绝大多数使用效果并不理想。

[0002]

发明内容

[0003] 本发明旨在提供一种效率高、清洁效果好，廉价的光伏硅片清洗剂，并提供一种超声波清洗法方法。

[0004] 本发明光伏硅片清洁剂的技术方案是：其特点是该清洁剂的组分为：按重量配比为，纯水∶碳酸钠∶偏硅酸钠∶脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙稀封端聚醚∶C12脂肪醇聚氧乙烯醚∶烷基苯磺酸盐∶烷基双羟酸盐＝100∶2∶2∶3∶3.5∶2∶1；将上述原料混合，充分搅拌而成。

[0005] 本发明清洁方法的技术方案是：其特点是步骤一：制作清洁剂，将纯水、碳酸钠、偏硅酸钠、脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙稀封端聚醚、C12脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基苯磺酸盐、烷基双羟酸盐按100∶2∶2∶3∶3.5∶2∶1的比例混合，并充分搅拌；步骤二：纯水冲洗，将硅片放入容器中加入纯水，用超声波清洗5分钟，温度50℃，超声波功率80w，频率40Hz；步骤三：清洁剂冲洗，将硅片放入容器中加入上述清洁剂，用超声波清洗5分钟，温度65℃，超声波功率80w，频率40Hz；步骤四：纯水冲洗，将硅片放入容器中加入纯水，用超声波清洗5分钟，温度50℃，超声波功率80w，频率40Hz；步骤五：烘干。[0006] 本发明具有如下的优点和效果：1、清洗剂中碳酸钠、偏硅酸钠为碱性洗涤剂，脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙稀封端聚醚、C12脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基苯磺酸盐、烷基双羟酸盐为活性剂，故成本较低，同时效率高、清洁效果好。2、本发明的提出超声波清洗的工艺流程，清洗硅片后，在显微镜下表面看不到任何污染物残留，色泽光亮均一，能极大地节省成本，减少

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说 明 书

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环境污染。

具体实施方式

[0007] 实施例1一：制作清洁剂，将纯水、碳酸钠、偏硅酸钠、脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙稀封端聚醚、C12脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基苯磺酸盐、烷基双羟酸盐按100∶2∶2∶3∶3.5∶2∶1的比例混合，并充分搅拌；二：纯水冲洗，将硅片放入容器中加入纯水，用超声波清洗5分钟，温度50℃，超声波功率80w，频率40Hz；三：清洁剂冲洗，将硅片放入容器中加入上述清洁剂，用超声波清洗5分钟，温度65℃，超声波功率80w，频率40Hz；四：纯水冲洗，将硅片放入容器中加入纯水，用超声波清洗5分钟，温度50℃，超声波功率80w，频率40Hz；五：烘干。[0008] 实施例2一：制作清洁剂，将纯水、碳酸钠、偏硅酸钠、脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙稀封端聚醚、C12脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基苯磺酸盐、烷基双羟酸盐按100∶2∶2∶3∶3.5∶2∶1的比例混合，并充分搅拌；二：纯水冲洗，将硅片放入容器中加入纯水，用超声波清洗10分钟，温度40℃，超声波功率80w，频率40Hz；三：清洁剂冲洗，将硅片放入容器中加入上述清洁剂，用超声波清洗10分钟，温度70℃，超声波功率100w，频率40Hz；四：纯水冲洗，将硅片放入容器中加入纯水，用超声波清洗5分钟，温度40℃，超声波功率80w，频率40Hz；五：烘干。[0009] 实施例3一：制作清洁剂，将纯水、碳酸钠、偏硅酸钠、脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙稀封端聚醚、C12脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基苯磺酸盐、烷基双羟酸盐按100∶2∶2∶3∶3.5∶2∶1的比例混合，并充分搅拌；二：纯水冲洗，将硅片放入容器中加入纯水，用超声波清洗3分钟，温度60℃，超声波功率60w，频率40Hz；三：清洁剂冲洗，将硅片放入容器中加入上述清洁剂，用超声波清洗3分钟，温度60℃，超声波功率60w，频率40Hz；四：纯水冲洗，将硅片放入容器中加入纯水，用超声波清洗2分钟，温度60℃，超声波功率80w，频率40Hz；五：烘干。

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