专利名称：微波等离子体产生室专利类型：发明专利发明人：M·哈默尔
申请号：CN201680044385.9申请日：20160720公开号：CN107926107A公开日：20180417
摘要：一种用于等离子体产生的微波室。该微波室包括：发射结构，其位于微波室的第一端处以容纳用于产生微波能量的微波源；以及端接区段，其位于微波室的与第一端部相对的第二端部处。该端接区段被构造为大致阻塞微波能量从室的第二端传播。微波室还包括内壁结构，该内壁结构用于将在微波室内接收的微波能量在第一端处朝第二端引导并且限定腔体。该内壁结构包括：阻抗匹配区段，其在第一端和第二端中间；以及电容负载区段，其在阻抗匹配区段和第二端之间，其中电容负载区段包括沿着室的纵向轴线延伸的至少一个脊部。微波室限定延伸过电容负载区段的第一壁的第一开口和延伸过电容负载区段的第二壁的第二开口。第二壁与第一壁相对。第一开口和第二开口被构造为彼此配合以沿着延伸过第一开口和第二开口且大致垂直于室的纵向轴线的轴线在电容负载区段中接收等离子体焰炬。
申请人：安捷伦科技有限公司
地址：美国加利福尼亚州
国籍：US
代理机构：北京坤瑞律师事务所
代理人：史悦
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